Objavljeno: 21.2.2006
IBM z 29,9 nm
Raziskovalni oddelek IBM Research je iznašel metodo za risanje črt po siliciju, ki so oddaljene le za 29,9 nanometrov. Ker jim je podvig uspel z uporabo današnjih strojev za izdelavo čipov in ker so črte na današnjih čipih precej bolj oddaljene, utegne nov dosežek iz laboratorijev IBM pomembno prispevati k zmanjševanju stroškov izdelave integriranih vezij. Robert Allen, direktor oddelka za litografske materiale v laboratoriju Almaden Research Center, je prepričan, da se lahko IBM rutinsko spusti tudi globlje pod mejo 30. nanometrov.