Letos prihaja Canonova konkurenca ASML-ju
Canon je oktobra predstavil tehnologijo nanoimprint za izdelavo čipov, s katero želi konkurirati ASML-jevi litografiji z ekstremnim UV (EUV). Letos bodo prve stroje za proizvodnjo čipov že začeli prodajati, so sporočili iz Japonske. Vodja industrijskega dela Canona Hiroaki Takeishi je dejal, da bo tehnologija nared letos ali najpozneje v začetku prihodnjega leta.